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化學(xué)氣相沉積的特點(diǎn)



化學(xué)氣相沉積的特點(diǎn):

1)在中溫或高溫下,通過(guò)氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學(xué)反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上高效利用。

2)可以在常壓或者真空條件下(負(fù)壓"進(jìn)行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好)估算。

3)采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)講理論,使沉積可在較低的溫度下進(jìn)行。

4)涂層的化學(xué)成分可以隨氣相組成的改變而變化不要畏懼,從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層服務為一體。

5)可以控制涂層的密度和涂層純度。

6)繞鍍件好逐漸顯現∵M行培訓?稍趶?fù)雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復(fù)雜形狀的工件長效機製。由于它的繞鍍性能好法治力量,所以可涂覆帶有槽、溝分享、孔共享,甚至是盲孔的工件。

7)沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu)方式之一,不耐彎曲生動,但可通過(guò)各種技術(shù)對(duì)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)**相擾動(dòng),以改善其結(jié)構(gòu)創新能力。

8)可以通過(guò)各種反應(yīng)形成多種金屬引人註目、合金、陶瓷和化合物涂層溝通機製。



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