Titan是一套用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的十分緊湊應用提升、全自動化主動性、帶預(yù)真空室的等離子系統(tǒng)。
Titan具有反應(yīng)離子刻蝕(RIE)配置高質量發展、高密度電感耦合等離子沉積(HDICP)或等離子增強型化學(xué)汽相沉積(PECVD)配置全方位。可對單個基片或帶承片盤的基片(3”-300mm尺寸)進行處理影響力範圍。它還具有多尺寸批處理功能大局。價格適宜且占地面積小。
刻蝕應(yīng)用： 砷化鎵邁出了重要的一步、砷化鋁鎵有序推進、氮化鎵、磷化銦需求、鋁堅定不移、硅化物組合運用、鉻以及其他要求腐蝕性和非腐蝕性化學(xué)刻蝕的材料。
沉積應(yīng)用： 二氧化硅迎難而上、氮化硅積極、氮氧化物和其他各種材料。