UEFC-4900
UEFC-4900是UEFC-5700的緊湊版結構不合理。該系統(tǒng)的源基間距和腔室角度專門為150mm晶圓工藝做了優(yōu)化設(shè)計(jì)逐步改善。 強(qiáng)大的中等生產(chǎn)設(shè)備 UEFC-4900是用于lift-off工藝的大大提高、 高均勻性的、 中等產(chǎn)能的蒸鍍設(shè)備應用擴展。 Auratus方法論提高了有效的薄膜沉積速率增多，使得客戶能更快的制造晶圓。 與傳統(tǒng)的箱體式鍍膜機(jī)相比導向作用， UEFC-4900具有以下特點(diǎn)： · 大的裝片量－25片150mm晶圓 · 在不增加設(shè)備占地和功耗的情況下獲得額外的40％晶圓裝片量 · 15分鐘內(nèi)抽真空至5E-07Torr · 高真空泵水蒸氣總抽速36500L/s · 顯著減少的腔室體積和內(nèi)表面積
UEFC-5700 UEFC-5700是一款采用Auraus薄膜沉積工藝改進(jìn)方法論的Temescal系統(tǒng)，極大地改善了lift-off鍍膜工藝大幅增加。 不使用或僅使用極小型的均勻性修正板即可獲得很好的均勻性等特點，并且還能減少高達(dá)40％的材料消耗多種。 超高產(chǎn)能的設(shè)備 UEFC-5700是用于lift-off工藝的高產(chǎn)能的蒸鍍設(shè)備發展成就。 Auratus方法論提高了有效的薄膜沉積速率，使得客戶能更快的制造晶圓系統。 與傳統(tǒng)的箱體式鍍膜機(jī)相比進一步提升，UEFC-5700具有以下特點(diǎn)： · 超大的裝片量－42片150mm晶圓 · 在不增加設(shè)備占地和功耗的情況下獲得額外的40％晶圓裝片量 · 10分鐘內(nèi)抽真空至5E-07Torr · 高真空泵水蒸氣總抽速44000L/s · 顯著減少的腔室體積和內(nèi)表面積